事業内容

半導体製造装置の開発・営業・販売

顧客満足を第一方針としております。
お取引についてのお願い
- 御社生産装置のメーカーとしてのお取引
- 御社へ納入済み装置のメンテナンス担当としてのお取引
- 御社との技術協力による生産装置の共同開発

お客様のニーズにご協力し得る技術力
1968年以来、半導体製造装置業界（特にマスク）に参入し培った技術
1968年以来、お客さまに装置納入し培った技術
随時より良い装置製作を目標とし、生み出した技術
- 1977年のバーチカル・スクラブ洗浄（特許破棄）
- 2001年の究極の差圧式スピンドライ（特許）
納入済みの装置の改良および保守体制へのご協力
協力会のバックアップによる強力な生産体制
全社一丸（少数精鋭）となっての強力な生産体制

1980年 1月	マスク両面スクラバ　MS-4000
1981年 3月	マスク両面ハイプレッシャースクラバ　MS-5000
1982年 12月	マスク洗浄乾燥装置　KMP-S3
1983年 12月	ウエハ用IPA乾燥機　KDA-Q-A
1983年 12月	レチクル両面スクラバ　3MS-3200
1983年 12月	コンパクトスクラバ　CS-1000
1984年 12月	ディスク両面スクラバ　DS-4400W
1984年 12月	ペリクルステッカ　PS-1000
1985年 12月	マスク両面スクラバ　MS-6000
1986年 3月	大型基板洗浄装置　KGP-S3-A
1986年 4月	レーザーダイオード洗浄装置　KLDP-5-A
1986年 12月	ディスク4面スクラバ　ADS-4300D
1987年 4月	レチクル両面スクラバ（ケース収納）　3MS-3200R
1987年 9月	オートローダ　AL-2000
1987年 9月	アルミナ基板洗浄装置　KCP-S4-A
1988年 7月	キャリア洗浄機　CC-2000
1988年 11月	ハイグレードクリーナ　HGC-UMV-R
1989年 8月	温純水ヒーターユニット　6HXC-48-200
1990年 2月	マスク6面スクラバ　KHCP-4S3-A
1990年 10月	片面エッチング装置　KEP-2SPD-A
1991年 10月	液晶大型基板洗浄装置生産開始　KGP-4S3-A
1992年 8月	液晶基板水平搬送洗浄装置　KGP-BSDN-F
1993年10月	ハードディスク洗浄装置　KDP-4-A
1994年 6月	CMP一体型洗浄装置　CWP-3SPD-A
1995年 3月	ワイヤソー後洗浄装置　CWC-5D-A
1997年 12月	ウエハ・Cuメッキ装置　スプリンクル
1998年 9月	プラネット・クリーニングシステム　HGC-1V-A
1999年 4月	ディスク・スクラブ洗浄装置　CDP-2S-A
1999年 5月	SC-1供給システム
1999年 11月	ディスク・スクラブ洗浄装置　CDC-S2-A
2000年 1月	ハイグレードマスク洗浄装置　HGC-5SS4V-A
2000年 9月	バーチカル・エッチング装置　CVE-1-M
2000年 12月	ALエッチング装置　CSE-2-A
2001年 3月	バーチカルエッチング装置　CVE-1000-A
2002年 7月	デファレンシャル・エッチング装置　SCDE-1007-A
2003年 7月	1inchHDメディア・スクラブ洗浄装置　CDC-1S3V-A
2003年 9月	CBD成膜装置
2005年 4月	大型基板機能水洗浄装置　CLMC-3S4-A
2005年 7月	スピン・ケミカルステーション　CWP-3+2-A
2006年 5月	HDメディア・スクラブ洗浄装置　1200PPH　CDC-1S6Dv-A
2006年 8月	新片面エッチング装置　KEP-2Ds-A
2007年	マスク洗浄装置　CMC-Sp-M
2007年	ポストCMPクリーナ
2008年	エキシマUV処理装置
2008年	HDサブ・スクラブ洗浄装置　1500PPH
2008年	IPAベーパ代替ニュードライヤ
2009年	DTM対応洗浄モジュール
2010年	バーティカルウエハスクラブ洗浄装置
2011年	φ300ウエハケミカル処理装置
2013年	薄膜バーティカル洗浄装置
2014年	ウエット/ドライハイブリッドレチクル洗浄装置
2014年	卓上型エッチングユニット
2015年	HD新型ルブリカント装置　3600PPH

営業方針

技術力と装置製作

私たちの足跡