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ニューテクノロジー

  • ニュードライヤー

IPAベーパー装置に代わる乾燥装置で、溶剤を用いることなく基板を乾燥させることを目的とし、溶剤の消費量を削減、廃止致します。

特徴

  • コンパクトなユニット構造なので既存設備の改造、ユニットの入れ替えも容易です。
  • スループット、乾燥品質を落とすことなく精密乾燥させます。
  • 乾燥工程は減圧下で行われるため、自然酸化膜の発生を抑え、酸化膜起因のウォーターマークを防止します。
  • スピン処理等で割れやすい薄い基板、パターンのある基板にも適します。
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  • 真空式プロセッサ

二重チャンバー構造と真空制御により空気抵抗による影響を排除した均一な処理を行います。

  • 真空式コータ
  • 真空式現像装置
  • 真空式エッチング装置
  • 真空式洗浄装置

など

特徴

  • 均一な膜厚、エッチング性が得られます。
  • 粘度の高いケミカルににも適用できます。
  • 薄い基板、角基板に適します。
  • ケミカル処理～リンス～乾燥まで同一チャンバーにて自動処理します。
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